Comparison between focused electron/ion beam-induced deposition at room temperature and under cryogenic conditions

  1. De Teresa, J.M.
  2. Orús, P.
  3. Córdoba, R.
  4. Philipp, P.
Revista:
Micromachines

ISSN: 2072-666X

Ano de publicación: 2019

Volume: 10

Número: 12

Tipo: Revisión

DOI: 10.3390/MI10120799 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso aberto editor
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