Au-pva nanocomposite negative resist for one-step three-dimensional e-beam lithography

  1. Marqués-Hueso, J.
  2. Abargues, R.
  3. Canet-Ferrer, J.
  4. Agouram, S.
  5. Valdés, J.L.
  6. Martínez-Pastor, J.P.
Revista:
Langmuir

ISSN: 0743-7463,  1520-5827

Ano de publicación: 2010

Volume: 26

Número: 4

Páxinas: 2825-2830

Tipo: Artigo

DOI: 10.1021/LA902915N GOOGLE SCHOLAR

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable

Fonte de datos: Scopus