Properties of al2o3 thin films grown by pe-ald at low temperature using h2o and o2 plasma oxidants

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Revista:
Coatings

ISSN: 2079-6412

Año de publicación: 2021

Volumen: 11

Número: 10

Tipo: Artículo

DOI: 10.3390/COATINGS11101266 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
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