Célula solar invertida y proceso para producir la misma
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Erfinder:
- NAZEERUDDIN, MOHAMMAD KHAJA
- GRAETZEL, MICHAEL
- HENDRIK JAN BOLINK
- MALINKIEWICZ, OLGA
- ALEJANDRA SORIANO PORTILLO
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École Polytechnique Fédérale de Lausanne
info
École Polytechnique Fédérale de Lausanne
Lausana, Suiza
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Universitat de València
info
Universitat de València
Valencia, España
ES2907076T3 (21-04-2022)
EP3044817A1 (20-07-2016)
EP3044817B1 (15-12-2021)
EP3044817B9 (02-03-2022)
WO2015036905A1 (19-03-2015)
PCT/IB2014/064276 (05-09-2014)
E14767143 (05-09-2014)
Zusammenfassung
Un método para producir una célula solar en estado sólido, comprendiendo el método los pasos de:
proporcionar una capa colectora de huecos;
aplicar una capa conductora sobre la capa colectora de huecos;
aplicar una capa de bloqueo de electrones sobre la capa conductora;
aplicar una capa sensibilizadora en contacto directo con y sobre la capa de bloqueo de electrones;
recubrir una capa de bloqueo de huecos sobre la capa sensibilizadora; y
proporcionar un colector de corriente y/o una capa de metal o un conductor, que está en contacto directo con la capa de bloqueo de huecos,
caracterizado por que la capa sensibilizadora que tiene un espesor de 250 nm a 350 nm consiste en una perovskita orgánico-inorgánica que es proporcionada por uno o más métodos seleccionados del grupo de métodos de deposición física de vapor que consisten en deposición por proceso de sublimación, deposición de arco catódico, deposición física de vapor por haz de electrones, evaporación térmica, deposición por evaporación, deposición por láser pulsado, deposición por pulverización catódica o por deposición química de vapor; por que la capa de bloqueo de electrones comprende un material de bloqueo de electrones que se selecciona de derivados de aminas aromáticas que se seleccionan de trifenilamina, carbazol, N,N,(difenil)-N',N'di-(alquilfenil)-4,4'-bifenildiamina, (pTPDs), difenilhidrazona, poli[N,N'-bis(4-butilfenil)-N,N'-bis(fenil)bencidina] (poliTPD), poliTPD sustituido por grupos donantes de electrones y/o grupos aceptores, poli(9,9-dioctilfluoreno-alt-N-(4-butilfenil)-difenilamina (TFB), 2,2',7,7'-tetrakis-N,N-di-p- metoxifenilamina-9,9'-espirobifluoreno) (espiro-OMeTAD), N,N,N',N'-tetrafenilbencidina (TPD); y por que dicha capa de bloqueo de huecos comprende un material de bloqueo de huecos que se selecciona de éster metílico del ácido [6,6]-fenil-C61-butírico (PCBM), 1,4,5,8,9,11-hexazatrifenilen-hexacarbonitrilo (HAT-CN), (C60-Ih)[5,6]fullereno (C60), (C70-D5h)[5,6]fullereno (C70), éster metílico del ácido [6,6]-fenilo C71 butírico (PC70BM) y óxidos metálicos.