Redox Properties of TiO2Thin Films Grown on Mesoporous Silica by Atomic Layer Deposition

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Revista:
Journal of Physical Chemistry Letters

ISSN: 1948-7185

Año de publicación: 2023

Volumen: 14

Número: 20

Páginas: 4696-4703

Tipo: Artículo

DOI: 10.1021/ACS.JPCLETT.3C00834 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
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