Integration of ultra low thermal budget CVD dielectrics in 65 NM MOS devices

  1. Morin, P.
  2. Rossato, C.
  3. Martinez, E.
  4. Denis, E.
  5. Judong, F.
  6. Gouraud, P.
  7. Wacquant, F.
  8. Bicais, N.
  9. Juhel, M.
  10. Duriez, B.
  11. Woo, M.
  12. Arnaud, F.
Actas:
Proceedings - Electrochemical Society

Año de publicación: 2004

Volumen: 11

Páginas: 11-18

Tipo: Aportación congreso