Growth of HfO2/TiO2 nanolaminates by atomic layer deposition and HfO2-TiO2 by atomic partial layer deposition

  1. Hernández-Arriaga, H.
  2. López-Luna, E.
  3. Martínez-Guerra, E.
  4. Turrubiartes, M.M.
  5. Rodríguez, A.G.
  6. Vidal, M.A.
Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 1089-7550,  0021-8979

Any de publicació: 2017

Volum: 121

Número: 6

Tipus: Article

DOI: 10.1063/1.4975676 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus