Propiedades fotoquímicas y fotofísicas de las fluoroquinolonas implicadas en el daño oxidativo al ADN

Abstract

Las fluoroquinolonas (FQs) son fármacos ampliamente usados como antibióticos ya que son muy activos contra una gran variedad de bacterias gram(+) y gram(-). Su forma de actuar es única entre los agentes antimicrobianos que se usan actualmente, ya que inhiben la acción de la ADN girasa, una enzima bacteriana implicada en la replicación, recombinación y reparación del ADN. Sin embargo, el hecho de presentar efectos secundarios de fotosensibilidad limita su uso y en algunos casos ha llegado incluso a ser motivo de retirada del mercado en ciertos países. Además, en los últimos años varias FQs (FRX, CPX, LFX, OFX, ..) se han relacionado con fenómenos de fotogenotoxicidad, fotomutagenicidad y fotocarcinogenicidad. En consecuencia, no es extraño que se esté haciendo un gran esfuerzo por diversos grupos de investigación para estudiar los mecanismos a través de los cuales se producen estos efectos secundarios. El estudio de la fotoquímica y la fotofísica, junto con ensayos in vivo e in vitro resulta fundamental en este sentido. En la presente tesis doctoral se ha llevado a cabo el estudio fotoquímico, fotofísico y fotobiológico de FQs, escogiendo como modelo RFX, OFX (y sus ésteres metílicos) y NFX (y su derivado acetilado). En un primer capítulo se ha estudiado la fotoquímica de (E)RFX a través de su irradiación en estado estacionario bajo condiciones aeróbicas que resulta en una N-desmetilación. Se ha demostrado la participación del oxígeno en esta reacción. Parece que hay dos mecanismos involucrados en la fotodegradación de (E)RFX, la fotoionización desde 1(E)RFX y la generación de oxígeno singlete desde 3(E)RFX. Los intermedios clave son (E)RFX.+ y el radicalanión superóxido en los dos casos. La reacción de estos intermedios explica la N-desmetilación de (E)RFX via un catión iminio. Estos resultados ayudan a entender observaciones previas de fotorruptura del anillo piperazínico y la detección de H2O2