Oscillatory Changes of the Heterogeneous Reactive Layer Detected with the Motional Resistance during the Galvanostatic Deposition of Copper in Sulfuric Solution

  1. Cuenca, A.
  2. Agrisuelas, J.
  3. García-Jareño, J.J.
  4. Vicente, F.
Revista:
Langmuir

ISSN: 1520-5827 0743-7463

Año de publicación: 2015

Volumen: 31

Número: 46

Páginas: 12664-12673

Tipo: Artículo

DOI: 10.1021/ACS.LANGMUIR.5B03694 GOOGLE SCHOLAR