PROCEDIMIENTO DE OBTENCIÓN DE MATERIALES MESOPOROSOS BIMODALES BASADOS EN ÓXIDOS DE SILICIO MEDIANTE EL USO DE RADIACIÓN MICROONDAS

    Inventors:
  1. JOSE VICENTE ROS LIS
  2. ANA MARIA COSTERO NIETO
  3. PEDRO JOSE AMOROS DEL TORO
  4. JAMAL EL HASKOURI BENNAGI
  5. DÍAZ DE GRE�U PUERTAS, Borja
  6. MU�OZ PINA, Sara
  7. DE LOS REYES CÁNOVAS, Ruth
  1. Universitat de València
    info

    Universitat de València

    Valencia, España

ES
Publicación principal:

ES2912936A1 (30-05-2022)

Otras Publicaciones:

ES2912936B2 (05-10-2022)

Solicitudes:

P202031193 (27-11-2020)

Imagen de la patente

Abstract

Procedimiento de obtención de materiales mesoporosos bimodales basados en óxidos de silicio mediante el uso de radiación microondas.Un procedimiento de obtención de materiales mesoporosos bimodales, basados en óxidos~de silicio, a partir de precursores atrano, caracterizado porque comprende:

- una primera etapa de formación de un material mesoestructurado que contiene materia orgánica,

- y una segunda etapa de eliminación de la materia orgánica contenida en el material mesoestructurado, por calcinación, obteniendo un material mesoposoro bimodal, basado en óxido de silicio, y tal que al menos una de las dos etapas se realiza mediante irradiación del material de partida correspondiente, con radiación microondas procedente de fuentes de estado sólido.

INVENES: P202031193